Laboratório de Física Aplicada

Instituição: CENTRO DE DESENVOLVIMENTO DA TECNOLOGIA NUCLEAR

Cidade/UF: MG/6.627

O Laboratório é equipado com instalações avançadas para obtenção de sistemas nanométricos e análise de suas propriedades de superfície, estruturais e magnéticas.Inclui técnicas que permitem a síntese de nanopartícula e o crescimento epitaxial de filmes finos, por epitaxia de feixe molecular (MBE) e por sputtering. As caracterizações químicas, estruturais e magnéticas são investigadas utilizando as técnicas avançadas de XPS, XRF. DRX, AES, LEED, RHEED, MOKE, Mössbauer e VSM.

Áreas de atuação

• Caracterização de Nanoparticulas
• Deposição de filmes finos por magnetron sputtering,
• Análise de Biomateriais
• magnetismo e materiais magnéticos
• Materiais 2Ds
• Grafeno, óxido de grafeno, materiais grafênicos
• Caracterização de Nanomateriais
• fabricação e caracterização de filmes finos
• Fisica de Superfície

Técnicas disponíveis

• Difração de elétrons de baixa energia (LEED)
• Epitaxia Molecular
• Espectrometria de fluorescencia
• Análises por difração de raios X
• Crescimento de filmes finos
• crescimento de filmes finos por sputtering
• Difração de elétrons de alta energia refletidos (RHEED)

Equipamentos

• Câmara 01 de crescimento de filmes finos por Sputtering — sem marca Home made
• Câmara 02 de crescimento de filmes finos por Sputtering — v v
• Difratômetro de raios X — Rigaku Ultima IV
• Espectrômetro de fotoelétrons excitados por raios-X (XPS) — Specs GmbH XPS SPECs system
• Sistema de Crescimento Epitaxial e Analise de Filmes Finos Magnéticos — VG Microtech VG System

Dados extraídos do PNIPE/MCTI.