Laboratório de Plasmas e Processos
Instituição: Instituto Tecnológico de Aeronáutica
Cidade/UF: SP/sn
O Laboratório de Plasmas e Processos do Instituto Tecnológico de Aeronáutica agrega diversos grupos de pesquisadores, linhas de pesquisa e laboratórios nas áreas de Tecnologia de Plasmas e Engenharia de Materiais. Atualmente, o grupo é constituído por aproximadamente 50 membros entre professores, pesquisadores colaboradores, pós-doutorandos, e alunos de doutorado, mestrado e iniciação científica. Mantém também colaboração com os principais institutos de pesquisas nacionais e internacionais.
Áreas de atuação
- Engenharia de Materiais
- Engenharia de Superfícies
- Microfabricação
- Bioengenharia - Biomateriais
- Materiais ou Materiais Avançados ou Estruturas e Materiais Compósitos - Nanotecnologia
- Sustentabilidade – Energia Alternativa ou Sustentável
- Espacial - Propulsão
- Pesquisa Fundamental em Física/Química/Matemática
- Filmes Finos
- Recobrimentos
- Sensores e Dispositivos
- Fotovoltaicos e Fotocatálise
- Destruição de Resíduos
- Semicondutores
- Processos a Plasma
- Tecidos Funcionais
- Infraestrutura Aeronáutica – Engenharia de Superfície
- TX12: Materials, Structures, Mechanical Systems, and Manufacturing
- Espacial - Materiais
- TX08: Sensors and Instruments
Técnicas disponíveis
- Elipsometria
- Espectroscopia Raman
- Microscopia de Força atômica - AFM
- Espectrofotometria UV-Vis
- Difração de raios X
- Análise termica diferencial (DSC)
- Microscopia Eletrênica de Varredura (MEV)
- Espectroscopia de Infravermelho
- Magnetron Sputtering
- Tochas de Plasma
- Processos a Plasma
- Perfilometria
- PECVD
- Deposição por Camada Atômica - ALD
- Condutividade por 4-pontas
- Plasmas de Micro-ondas
- Descarga de barreira dielétrica - DBD
- Corrosão por íons reativos - RIE
- Catodo oco
- Goniometria
Equipamentos
- Analizados de microporosidade — System Micromeritics ASAP 2020
- Analisador de gases — Extrel MAX300-LG
- Analisador térmico simultâneo — Netzsch STA 449 F3 Jupiter
- Difratômetro de raios-X — PanAnalytical Enpyrean
- Elipsômetro Espectroscópico — Horiba Uvisel II
- Espectrofotômetro Infravermelho — Perkin Elmer Frontier
- Espectrômetro Raman — Horiba Evolution
- Espectrômetro de massas de feixe molecular — Hiden Analytical HPR-60
- Espectrômetro ótico — Princeton Instruments Acton Spectra Pro SP-2500i
- Forno tubular com atmosfera controlada — INTI FT-1200
- Goniômetro — Ramé-Hard Model 500
- Microscópio Eletrônico de Varredura — Tescan Vega 3
- Microscópio de Força Atômica — Shimadzu SPM 9500J3
- Perfilômetro Mecânico — KLA Tencor P7
- Sistema de DC Dual Magnetron Sputtering — Home made Não se aplica
- Sistema de Reactive Ion Etching — Home made Não se aplica
- Sistema de deposição RF-magnetron sputtering dedicado a filmes e heteroestruturas a base de GaN, AlGaN e InGaN — Diversos Não se aplica
- Sistema de magnetron sputtering — Home made Não se aplica
- Sonda Universal 4-pontas — JANDEL RM 3000
- Spin-Coater — Laurell WS-650MZ-23NPP
- Tocha de Plasma para recobrimentos via Plasma-Spray — Home made Não se aplica
Dados extraídos do PNIPE/MCTI.