Laboratório de Filmes Finos e Processos de Plasma

Instituição: Universidade Federal do Triângulo Mineiro

Cidade/UF: MG/1250

Laboratório dedicado à produção de filmes finos e tratamentos de superfícies usando técnicas de plasmas frios tais como pulverização catódica, PECVD, plasma reativo e plasma atmosférico com barreira dielétrica para recobrimento de superfícies, bem como desenvolvimento de sensores químicos e biológicos e eletrodos para baterias e supercapacitores flexíveis. Desenvolvimento de eletrodos e compósitos baseados em grafeno e nanotubos de carbono para diversas aplicações científicas e tecnológicas.

Áreas de atuação

• Deposição de filmes finos por magnetron sputtering,
• Ativação e funcionalização de superfícies por plasma
• Desenvolvimento de Sensores Químicos
• filmes finos e nanopartículas
• Filmes finos
• grafeno
• biossensores
• dispositivos baseados em filmes finos e nanoestruturas
• materiais compósitos e novos materiais
• supercapacitores flexíveis de estado sólidos

Técnicas disponíveis

• Microscopia de Força atômica - AFM
• Potenciostato/Galvanostato com espectroscopia de impedância eletroquímica
• Potenciostato/Galvanostato
• pulverização catódica
• PECVD
• plasma por barreira dielétrica
• microscopia metalográfica
• espectroscopia infravermelha por transformada de Fourier
• balança de quartzo
• balança analítica
• eletrômetro
• lavadora ultrassônica

Equipamentos

• Espectrômetro no Infravermelho por Transformada de Fourier — Agilent Care 640
• Microscópio de Força Atômica Shimadzu SPM9700 — Shimadzu SPM9700

Dados extraídos do PNIPE/MCTI.