Laboratório de Crescimento in situ

Instituição: Centro Nacional de Pesquisa em Energia e Materiais

Cidade/UF: SP/10000

O laboratório de Crescimento in-situ (LCIS) oferece ferramentas no estado da arte para crescimento de filmes finos e hetero-estruturas para estudos posteriores com radiação sincrotron. As técnicas de crescimento disponíveis se baseiam em deposição por vapor físico nos modos de deposição por laser pulsado (PLD – do inglês Pulsed Laser Deposition) e epitaxia por feixes moleculares (MBE – do inglês Molecular Beam Epitaxy). Podem ser crescidos filmes metais, de óxidos e algumas moléculas simples.

Áreas de atuação

• Superfícies e filmes finos
• Síntese de novos materiais cerâmicos ou compósitos nanoestruturados (ferroelétricos, piezoelétricos ou multiferroicos)
• Desenvolvimento de dispositivos baseados em materiais ferroelétricos, piezoelétricos ou multiferróicos.
• Magnetismo de Materiais Magnéticos
• crescimento de filmes finos por PLD

Técnicas disponíveis

• Microscopia de Força atômica - AFM
• MICORSCOPIA DE TUNELAMENTO E VARREDURA EM ULTRA ALTO VÁCUO
• construção de filmes finos e heteroestruturas de nanomateriais
• Pulsed laser deposition
• Deposição de Filmes Finos e Ultrafinos
• Epitaxia Molecular

Equipamentos

• Camara de deposição a laser pulsado (PLD) — SPECS customizado
• Câmara de epitaxia por feixe molecular (MBE-1) — SPECS customizado
• Câmara de epitaxia por feixe molecular para moléculas orgânicas (O- MBE) — Fabricação própria customizado
• Microscópio de força atômica (AFM) — NanoSurf FlexAFM
• Microscópio de varredura de sonda em ultra-alto vácuo (STM/AFM) — Aarhus SPM 150
• Sistema de transferência de amostras em ultra-alto vácuo — SPECS NA

Dados extraídos do PNIPE/MCTI.