Laboratório aberto de micro e nanofabricação
Instituição: Centro de Tecnologia da Informação Renato Archer
Cidade/UF: SP/S/N
A LAmina ocupa cerca de 400 m² de instalações renovadas de salas limpas com diversos ambientes ISO classe 1000 até ISO classe 10, permitindo realizar processos de gravação direta a laser para máscaras litográficas, replicação de máscaras por litografia de contato, etapas auxiliares de microfabricação tais como: deposição de fotorresiste, revelação, gravação, corrosão seca e úmida e metrologia.
Áreas de atuação
- nanotecnologia
- microeletrônica
- fotônica
- microfabricação
Técnicas disponíveis
- Design de máscaras
- Fabricação de máscaras litográficas
- Geração de micro e nano padrões
- Fabricação de micro e nanodispositivos
Equipamentos
- Alinhadora de máscara por contato UV400 Karl Suss Modelo MJB3 — Karl Suss MJB3
- Copiadora de máscaras por UV Tamarack Série 155 — Tamarack Série 155
- Microscópio óptico de inspeção com capacidade de até 8 Nikon modelo Eclipse L200 — Eclipse L200 Nikon
- RTP - Forno Térmico Rápido — ALLWIN AccuThermo AW610
- Sistema automático de deposição por spinner e tratamento térmico de fotorresiste – Brewer Science modelo Cee 200CBX 8 — Cee 200CBX Brewer Science
- Sistema de Deposição por Spray ultrassônico Sonotek modelo ExactaCoat — Sonotek ExactaCoat
- Sistema de Litografia direta a Laser UV Heidelberg Instruments modelo DWL-66FS (DWL) — Heidelberg Instruments DWL-66FS
- Sistema de corrosão seca por íons reativos Oxford Tech. modelo RIE-80 — Oxford Tech RIE-80
- Sistema de deposição de filmes finos Langmuir-Blodgett com cuba - Biolin Scientific — Biolin Scientific Langmuir Blodgett com cuba
- Sistema de limpeza de máscaras e substrato Balzers modelo BMC701 — Balzers BMC701
- Spin Coating Brewer Science modelo Cee 200CBX 8 com placa quente — Brewer Science Cee 200CBX 8
Dados extraídos do PNIPE/MCTI.